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GC-9860-5CPDHID氦离子气相色谱仪

GC-9860-5CPDHID氦离子气相色谱仪

简要描述:

GC-9860-5CPDHID氦离子化气相色谱仪适用于高纯气体、超高纯气体及电子工业用气体中痕量杂质的检测。该产品以GC-9860气相色谱仪为载体,配备VALCO公司生产的氦离子化(PDHID)检测器;采用公司拥有专业技术的四阀五柱的中心切割与反吹技术,其中的所有进样和切换阀均为VALCO公司生产的带吹扫保护气路的六通或十通阀;上述部分与VALCO公司原装的氦气纯化器、无死体积取样阀等部件一起组成

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GC-9860-5CPDHID氦离子化气相色谱仪 产品的特点与技术要求:

1.气体行业专业色谱技术成套解决方案

2.采用VICI公司Valco带吹扫型十通与六通切换阀控制气路

3.应用气体分离专用色谱柱分离预切再分离技术

4.采用本公司技术的可分离与嵌入式单体控温柱炉

5.工艺流程采用多路精密零死体专用阀控制多维色谱分离柱流量

6.分析流程全部采用Valco公司316不锈钢管路与专用镀金接头

7.核心灵敏部件采用Valco公司PDHID脉冲氦离子检测器

8.成套专业化的数字与全中文反控气相色谱仪

中心切割与反吹系统

GC-9860-5CPDHID氦离子化气相色谱仪 采用多阀多柱的中心切割与反吹系统,该系统由多个吹扫型十通阀及多根色谱柱联合组成,通过工作站设置的时间程序自动控制其进样、切换、切割与反吹等过程,完成包括高纯氮、高纯氢、高纯氧、

高纯氦、高纯二氧化碳、高纯氩、氪气、氙气、氖气等高纯气体以及硅烷等电子工业用气体中痕量杂质的检测: 
VALCO吹扫型十通阀 
GC-9860-PDHID氦离子化气相色谱仪 所配备的均为原装进口VALCO生产的
经特殊加工的色谱柱技术

杜绝氧吸附

气体全分析流程:四阀五柱

HP-2氦气纯化器

可纯化气体:He、Ar、Ne、Kr、Xe、Rn 、NO、NH3、CF4等

残留浓度:≤10ppb

外置式单气路恒温柱箱

◆单气路,箱炉可独立控温与恒温;

◆加热块与柱炉体采用可分离与嵌入式技术;安装与拆卸实用方便;

◆炉体与外箱盒设计分体, 安装色谱柱, 分离与嵌入加热块,填装保温棉材等都人性化设计.

VALCO脉冲氦离子检测器

 

◆PDHID是利用氦中稳定的,低功率脉冲放电作电离源,使被测组分电离产生信号。

PDHID是非放射性检测器,对所有物质均有高灵敏度的正响应。

◆非放射性检测器,使用安全

◆检测灵敏度最高,气体中杂质的最小检测浓度达5ppb

 

Valco  PDHID氦离子化检测器对6种杂质的检测限(ppb)

杂质种类

H2

O2

N2

CO

CH4

CO2

检测限

5

10

10

25

5

5

 

色谱分析流程图

1.9分析过程

1. 如高纯N2通过程序设定,样品通过阀1定量管定量进入预柱1/8”*2mHayesepQ 1,预柱很好的把O2中CO2和H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO组分预分离,待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO 流出预柱,自动切换阀1。CO2直接通过阀1放空.

2. 阀3一开始是1-4相同,当O2从分子筛柱流出后进入阀3后,进入后面的分析筛,阀3切换,H2、02直接进入后面的分子筛继续分离,通过阀4进入检测器检测。此时阀3处于放空状态,放掉大部分的氮气,当CH4即将流出前面分子筛,阀3再次切换, CH4与氮气的混合气体进入后面的分子筛继续分离,通过阀4进入检测器进行检测。当CH4完全流出前面分子筛后,阀3再次切割为放空状态,继续放掉氮气。

3.  当CO即将流出分子筛,阀3再次切换,CO通过阀3进入后面的分子筛继续分离,进入检测器检测。当CO从前面分子筛流出后,阀3再次切换,处于放空状态。

4.  阀2是用来分析CO2的,当样品从定量环中带入预柱中,一开始阀2是处于放空状态,待H2、O2(Ar)、N2、CH4、CO流出排空后,阀2切换,把CO2反吹进检测器进行分析。

分析谱图

标准样品谱图

高纯氢气样品谱图

高纯氮气

 高纯Ar

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