新闻中心您的位置:网站首页 >新闻中心 > 高纯硅烷分析色谱主要特性
高纯硅烷分析色谱主要特性
发布时间:2017-12-23   点击次数:597次
   高纯硅烷分析色谱主要特性
  高纯硅烷分析色谱应用领域:
  硅烷在大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)和半导体器件制造中,用于气相外延生长、化学气相淀积等工艺(工序)。
  1.外延(生长)混合气在半导体工业中,在仔细选择的衬底上选用化学气相淀积的方法,生长一层或多层的材料所用的气体叫做外延气体。常用的硅外延气体有二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,氧化硅膜淀积,氮化硅膜淀积,太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积等。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。
  2.化学气体淀积(CVD)用混合气CVD是利用挥发性化合物,通过气相化学反应沉积某种单质或化合物的一种方法,即应用气相化学反应的一种成膜的方法。依据成膜种类,使用的化学气相淀积(CVD)气体也不同。
  高纯硅烷分析色谱主要特性:
  1、全兼容惠普HP5890II气相色谱仪,可直接接驳HP5890微型单丝热导检测器、氢火焰离子化检测器及相关检测器控制板.仪器技术指标、性能,检测器灵敏度可与HP5890相媲美!
  2、全新集成数字电子电路,控制精度高,性能稳定可靠,温控精度可达0.01℃.
  3、独特的进样口设计解决进样歧视;双柱补偿功能不仅解决升温带来的程序漂移,而且减去背景噪音的影响,可以得到更低的zui小的检测限。

分享到:

返回列表返回顶部
COPYRIGHT @ 2020 网站地图 关于我们 新闻中心 产品中心 联系我们
南京皓而普分析设备有限公司(www.hopeyq.com)主营:高纯氩分析色谱,氦离子气相色谱仪,VOC催化燃烧评测装置,催化反应装置,选择性加氢催化装置

化工仪器网

推荐收藏该企业网站
扫一扫访问手机站扫一扫访问手机站
访问手机站